พรีฟอร์มไฟเบอร์ออปติก

กระบวนการ MCVD หมายถึงวิธีการสะสมไอสารเคมีที่ได้รับการปรับปรุง ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนกระบวนการสองขั้นตอนของการสะสมและการหดตัวของของเหลว (การขึ้นรูปแท่ง) การสะสมคือการให้ความร้อนแก่หลอดปฏิกิริยาควอตซ์คุณภาพสูงที่เตรียมไว้ล่วงหน้าด้วยเปลวไฟออกซิเจนไฮโดรเจน ใช้ออกซิเจนที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นก๊าซพาหะ ใส่สัดส่วนของ SiCl4 และ GeCl4 ที่มีความบริสุทธิ์สูงลงในหลอดปฏิกิริยาควอตซ์ แล้วทำปฏิกิริยาเพื่อสร้าง SiO2 และอนุภาคขนาดเล็กโมเลกุล GeO2 ซึ่งวางอยู่บนผนังด้านในของหลอดปฏิกิริยาควอตซ์ตามหลักการของอุณหภูมิ การหดตัวของการหลอมคือการหลอมและหดตัวหลอดแก้วควอทซ์กลวงที่ฝากไว้เป็นพรีฟอร์มไฟเบอร์ออปติกที่เป็นของแข็งโดยการแนะนำก๊าซคลอรีน กระบวนการนี้มีความยืดหยุ่นในการทำงาน สามารถควบคุมการไหลของวัตถุดิบและจำนวนชั้นการสะสมได้อย่างแม่นยำ และสามารถผลิตพรีฟอร์มไฟเบอร์ออปติกที่มีโปรไฟล์ดัชนีการหักเหของแสงที่ดี ซึ่งเอื้อต่อการควบคุมประสิทธิภาพของไฟเบอร์ออปติก

กระบวนการ VAD หมายถึงวิธีการสะสมไอตามแนวแกน กระบวนการนี้จะทำให้วัตถุดิบกลายเป็นไอภายใต้สภาวะความร้อนของเปลวไฟไฮโดรเจนออกซิเจน และไฮโดรไลซ์ในเปลวไฟเพื่อสร้างอนุภาค SiO2 และ GeO2 อนุภาคเหล่านี้จะสะสมอยู่ที่แกนเริ่มต้นตามแนวแกน และการกระจายดัชนีการหักเหของแสงจะถูกปรับโดยการควบคุมอุณหภูมิการสะสม ความเร็ว อัตราการไหลของก๊าซ โครงสร้างการฉีด และปัจจัยอื่นๆ หลังจากการคายน้ำและการเผาผนึก โมเลกุลของน้ำและอนุมูลไฮดรอกซิลในบริเวณแกนของพรีฟอร์มจะถูกลบออกเพื่อสร้างแกนพรีฟอร์มที่โปร่งใส กระบวนการนี้มีข้อดีคือความเร็วและประสิทธิภาพในการสะสมสูง ไม่ง่ายที่จะผสมสิ่งเจือปน ความเยื้องศูนย์กลางเล็กน้อยของแกนและเปลือกหุ้ม และการประหยัดที่ดี

กระบวนการ OVD หมายถึงวิธีการสะสมไอนอกท่อ เช่นเดียวกับหลักการ VAD วัตถุดิบจะถูกทำให้เป็นแก๊สภายใต้สภาวะความร้อนของเปลวไฟไฮโดรเจนและออกซิเจน และปฏิกิริยาไฮโดรไลซิสเกิดขึ้นในเปลวไฟเพื่อสร้างอนุภาค อนุภาคเหล่านี้จะสะสมอยู่ที่พื้นผิวด้านนอกของแกนตั้งต้น หลังจากถึงขนาดที่กำหนดและถอดแกนเริ่มต้น พรีฟอร์มแบบกลวงจะถูกทำให้แห้งและเผาผนึกเพื่อสร้างพรีฟอร์มที่เป็นของแข็งที่โปร่งใส ข้อดีของกระบวนการนี้คือ ควบคุมกระบวนการได้ง่าย ประสิทธิภาพการผลิตสูงและเหมาะสำหรับการผลิตพรีฟอร์มไฟเบอร์ออปติกขนาดใหญ่

ป้ายกำกับยอดนิยม: พรีฟอร์มใยแก้วนำแสง